请问「物理气相沉积」是什么意思？
2026-07-13 00:15:51
「物理气相沉积」读音
拼音 wù lǐ qì xiāng chén jī，注音 ㄨˋ ㄌㄧˇ ㄑㄧˋ ㄒㄧㄤ ㄔㄣˊ ㄐㄧ
| 拼音字母 | wu li qi xiang chen ji |
|---|---|
| 拼音首字母 | wlqxcj |
| 注音符号 | ㄨ ㄌㄧ ㄑㄧ ㄒㄧㄤ ㄔㄣ ㄐㄧ |
| 注音首符号 | ㄨㄌㄑㄒㄔㄐ |
「物理气相沉积」释义
扩展释义 物理气相沉积(Physical Vapour Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。
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